| R&D 공동연구 확대 |
| 인터몰레큘러-엘피다, DRAM 기술 라이선스 체결 |
|
|
|
| 2010-12 |
|
|
인터몰레큘러(www.intermolecular.com)가 메모리 공급업체인 엘피다와 공동 개발 프로그램을 확장한다. 다년간 유효한 이 새로운 협정은 향후의 차세대 DRAM 기술들을 지원하기 위한 연구, 개발, 제조 공정 이전 및 대량 생산 지원 분야에 역점을 두고 있다. 이 협정은 지난 2007년부터 함께 협력해 온 양사간의 기존 공동연구를 확대한 것이다.
현재 양사는 실리콘밸리의 인터몰레큘러의 HPC(고생산성 조합) R&D센터에서 기존의 100 가지 이상 DRAM 개발 방법들에 관한 실험적인 학습 사이클을 향상시키기 위해 HPC 플랫폼을 사용해 공동 연구를 진행 중이다. 이 팀은 최신 DRAM 개발 기술을 대량 생산 시스템에 효과적으로 이전하기 위해 엘피다의 일본 내 히로시마의 제조 시설 및 엘피다에게 장비를 제공하는 업체들과 긴밀하게 협력하고 있다.
이번에 체결된 협약은 30~40나노미터 기술 노드에서 제조 공정 통합을 위해 신속한 기술 지원을 하는 일을 비롯해 20~30나노미터 사이의 DRAM을 위해 더욱 진보된 재료 및 공정, 통합 개발 등의 장기적인 지원 등을 명시하고 있다.
엘피다의 히데키 고미 이사는 “당사는 신기술과 재료들이 기존의 전통적인 R&D 모델에서보다 더욱 낮은 비용에 아주 빨리 초기 단계의 개발에서 대량 생산 시스템으로 이전됨을 보고 있다”고 밝혔다. 인터몰레큘러의 데이비드 라조브스키 대표는 “이 협력은 당사의 HPC 혁신 플랫폼과 공동연구 모델이 고객에게 얼마나 큰 경쟁력을 제공할 수 있는지를 입증한다. 양사간의 협력은 고객사가 차별화된 IP 보호기술을 관리할 수 있는 능력을 제공하는 시기를 더욱 가속화시키는데 의미가 있다”고 설명했다.
|
| [저작권자(c)SG미디어. 무단전재-재배포금지] |
|
|
|
|
