향후 3년간 총 70억불 규모 투자

삼성전자(www.samsung.com/sec)가 3D V낸드 수요 증가에 대응하고자 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인 기공식을 가졌다. 지난해 8월 이 회사는 향후 3년간 총 70억불 규모의 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결했으며, 중국 시안의 반도체 2기 라인을 통해 낸드플래시(V-NAND)를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응하겠다는 계획이다. 특히, 이번 2기 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중되어 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 기대하고 있다.
삼성전자 시안 반도체 사업장은 2012년 1기 기공식을 시작으로 2013년 전자연구소 설립, 2014년 1세대 V-NAND 양산 및 2015년 後공정 라인 완공, 2018년 2기 증설까지 꾸준한 투자를 추진해 나가고 있다.