반도체 제조용 스토캐스틱스(stochastics) 측정·제어 솔루션 기업인 프랙틸리아(www.fractilia.com)가 반도체 팹의 EUV 수율 문제를 관리할 수 있게 하는 ‘FAME™(Fractilia Automated Measurement Environment)’ 제품의 최신 버전을 출시한다고 밝혔다. 이 회사 측은, “프랙틸리아(Fractilia)의 FAME 제품을 활용하면 의사결정을 더 신속히 하고, 첨단 패터닝 공정을 더 잘 제어할 수 있어 디바이스 수율과 패터닝 생산성을 높일 수 있다”고 장점을 설명했다.

스토캐스틱스(stochastics)는 임의적이면서 반복적이지 않은 패터닝 오류를 일컫는데, EUV 공정에서 총 패터닝 오류의 50% 이상을 차지한다. 따라서 반도체 팹에서는 스토캐스틱스를 제어하기 위해 이를 정확히 측정할 필요가 있다. 기존 기법으로는 스토캐스틱스를 정확하고 정밀하게 측정하기가 어려운데, 첨단 공정에서는 스토캐스틱스가 무시할 수 없는 문제다. 첨단 193nm 광 리소그래피에서는 이미 문제가 되고 있으며, 특히 이중 및 사중 패터닝의 경우 더욱 그렇다. EUV 공정에서 스토캐스틱스는 심각한 수율 문제로 이어지고 비용을 높인다.

프랙틸리아(Fractilia)의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “스토캐스틱스 문제 때문에 제조 팹들은 수율과 생산성 사이에서 절충을 해야만 한다. 수율 저하를 막으려 노출량을 높이면 EUV 스캐너의 생산성이 떨어지고, 이것을 메우기 위해 추가적인 EUV 스캐너를 사용해야 할 수 있다며 스토캐스틱스를 제어하면 공정 장비의 생산성을 높이면서 수율도 개선할 수 있다”고 말했다. 이어 “프랙틸리아(Fractilia)의 FAME 제품을 사용하면 스토캐스틱스를 고도로 정확하고 정밀하게 측정 및 제어할 수 있어, 결과적으로 고객들에게 새로운 옵션이나 솔루션을 제공할 수 있다”며 “우리 고객들이 프랙틸리아 제품을 사용해서 측정하는 SEM 이미지 수가 빠르게 증가하고 있고, 프랙틸리아는 스토캐스틱스 측정에 있어서 사실 상의 업계 표준(de facto)으로 자리잡고 있다”고 덧붙였다.